我们知道，光学平台台面，若为达到高平面度，通常需要反复磨削，在加工过程中，多次磨削容易使材料产生形变，为了减少形变，通常要加厚台面，但我们通过振动恢复时间的说明已经知道，台面加厚质量增加，平台的振动恢复时间往往成倍（甚至几倍）增加，在很多精密光学实验中，这是不可接受的。
对于平台上的光学元件来说，平面度引起的高度差，通常可以忽略不计，气浮隔振平台尺寸定制，若确有必要考虑高度差，则完全可以通过卓立精密调整的位移台来实现。
综上所述，光学平台的平面度，同光学平台的隔振性能不相关，只能做为光学平台的一个辅助指标，供参考。

平面度（Surface Flatness）：光学平台的平面度，通常是指单位面积内，被测实际表面相对其理想平面的变动量。
通常国外光学平台的平面度指标为：±0.1mm/600mm×600mm，中航世纪的光学平台，通过精密磨削工艺，将平面度指标提高到0.02 ～ 0.05mm/600mm×600mm。
但严格意义上来说，光学平台平面度，对于隔振性能，没有任何影响，甚至若为了追求高平面度，往往会牺牲掉光学平台的隔振性能。

光学平台怎么清理掉里面的东西呢，这要看你掉的是什么样的物件了，如果平台重量不是很重，可以把平台翻转过来，用气流吹，看能否掉出来，估计这个动作很难做到，平板重量都不轻。
可以试试用真空吸头吸出来，如果是小物件一吸就吸出来了。

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